Others ECR plasma 장비관련 질문입니다.

2010.10.18 17:35

최선진 조회 수:35002 추천:78

안녕하세요, 저는 한국과학기술원 석사과정에 재학중인 최선진입니다.
홈페이지에서 plama를 이용한 흥미로운 연구를 하고 있는것 잘 살펴 보았습니다.

다름이 아니라 장비에 관하여 궁금한 점이 있어서, 메일로 질문을 드릴려다가 이곳에 남깁니다.
ECR(electron cyclotron resonance) plama에 관한 것인데요, 혹시 이장비를 이용하여 oxidation을 할 수 있을까요?
특히, 금속 물질을 oxidation하기 위함입니다.

답변부탁드립니다.
점점 차가워지는 날씨에 감기조심하십시오.
감사합니다.

최선진 올림.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77536
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20613
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57553
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69053
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93215
69 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5544
68 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6157
67 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4100
66 Ar plasma power/time [1] 1466
65 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17723
64 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11677
63 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3097
62 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4382
61 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3891
60 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3220
59 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2967
58 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8090
57 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6514
56 고온 플라즈마 관련 8092
55 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6578
54 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7721
53 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10354
52 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15835
51 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 31200
50 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31716

Boards


XE Login