개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] | 75021 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18862 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56341 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66848 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88324 |
43 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23460 |
42 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24400 |
41 | 몇가지 질문있습니다 | 16550 |
40 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22428 |
39 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22424 |
38 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19421 |
37 | RF에 대하여... | 29114 |
36 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23891 |
35 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31017 |
34 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24593 |
33 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20297 |
32 | 교육 기관 문의 | 17742 |
31 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21330 |
30 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29350 |
29 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22007 |
28 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20402 |
27 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19657 |
26 | DC SPT 문의 | 19631 |
25 | sputter | 16786 |
24 | Arcing | 23353 |