안녕하세요

재직중인 곳에서 O2 Asher 를 사용하고 있습니다.

약 3개월 마다 장비 유지보수 및 cleaning을 진행하고 있는데

그때마다 항상 O-ring이 갈라져 있고, 주변으로 흰색 가루(?) 같은 것들이 있습니다.

Ar를 사용하는 PVD 장비의 O-ring은 1년을 써도 멀쩡한데 O2 asher만 그러네요....

O-ring 재질은 바이톤 재질을 사용하고 있습니다.

O2 Asher에 적합한 O-ring이 무엇인지 알고 싶습니다.

그리고 발생된 흰가루나 갈라진 O-ring이 out gasing, particle을 유발하여 제품에 영향을 미칠까요?

작업 용도는 세라믹 기판에 코팅된 PR을 노광 및 현상 후 표면 Cleaning 용도로 쓰고 있습니다.

 

무더위 건강 유의하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다.!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79248
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21265
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58065
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69623
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94413
73 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1354
72 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1306
71 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1305
70 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1284
69 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1278
68 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1266
67 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1266
66 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1263
65 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1242
64 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1220
63 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1186
62 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1182
61 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1176
60 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1165
59 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1141
58 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1015
57 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1008
» O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 994
55 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 987
54 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 906

Boards


XE Login