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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66858
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163 Compressive한 Wafer에 대한 질문 17
162 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 52
161 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 126
160 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 134
159 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 193
158 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 194
157 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 219
156 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 243
155 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 257
154 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 304
153 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 318
152 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 338
151 RF Sputtering Target Issue [2] file 354
150 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 360
149 Polymer Temp Etch [1] 375
148 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 391
147 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 413
146 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 470
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144 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 525
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