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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67965
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114 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1326
113 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1338
112 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1359
111 Ar plasma power/time [1] 1373
110 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1507
109 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1532
108 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1540
107 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1548
106 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1642
105 터보펌프 에러관련 [1] 1670
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103 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1718
102 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1749
101 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1809
100 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1938
99 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2016
98 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2055
97 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2087
96 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2099
95 etching에 관한 질문입니다. [1] 2113
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