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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
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RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
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PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP]
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애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
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플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
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Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수]
[1] | 779 |
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magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화]
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전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소]
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AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
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메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
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Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability]
[1]  | 946 |
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III-V 반도체 에칭 공정 문의
[1] | 946 |
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ICP 후 변색 질문
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Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R]
[1] | 957 |
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PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙]
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접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
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158 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide]
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기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging]
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O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다.
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Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
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