Etch AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제

2022.08.22 14:09

박범훈 조회 수:848

안녕하세요, 처음으로 글을 써봅니다.

 

AlCu Etch시 Cl2, BCl3 , N2 3개의 gas를 이용하여 Etching 하고 있습니다만 Etch 후 검정색 점형태 혹은 가루같은 형태로 Dust가 남아있는 문제가 있습니다.

 

Dust 는 Copper 성분으로 생각되는데 확실하진 않습니다.

Wet으로 제거했던 경험이 있는데 Dry Etch로는 지울 수 없는건지요?

 

Etching 장비는 TCP형태입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111514
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27842
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65114
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76937
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111199
174 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 724
173 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 739
172 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 739
171 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 747
170 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 747
169 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 770
168 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 806
167 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 845
» AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 848
165 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 870
164 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 925
163 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 934
162 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 945
161 ICP 후 변색 질문 946
160 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 958
159 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 989
158 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 1001
157 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 1048
156 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 1075
155 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 1079

Boards


XE Login