번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4910
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16245
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83571
107 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1004
106 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1010
105 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1018
104 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1031
103 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1055
102 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1085
101 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1167
100 Ar plasma power/time [1] 1194
99 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1216
98 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1220
97 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1239
96 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1403
95 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1413
94 etching에 관한 질문입니다. [1] 1455
93 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1457
92 터보펌프 에러관련 [1] 1471
91 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1558
90 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1615
89 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1627
88 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1782

Boards


XE Login