번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] 1520
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2346
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49510
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59719
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75660
78 PR wafer seasoning [1] 2297
77 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2333
76 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 2433
75 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2448
74 플라즈마 색 관찰 [1] 2504
73 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2562
72 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2666
71 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3040
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3241
69 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3253
68 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4497
67 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 4602
66 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5036
65 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5448
64 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6019
63 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6438
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7338
61 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7497
60 PEALD관련 질문 [1] 7501
59 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 7782

Boards


XE Login