번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73079
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17643
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65737
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86107
76 플라즈마 색 관찰 [1] 3392
75 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3605
74 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3667
73 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3711
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4138
71 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 4271
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4482
69 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5075
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5459
67 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5733
66 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5960
65 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6280
64 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6510
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7600
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7689
61 고온 플라즈마 관련 8046
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8145
59 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9171
58 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9239
57 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 9665

Boards


XE Login