Deposition 박막 형성

2004.06.21 15:10

관리자 조회 수:15110 추천:241

박막 형성

ICP장치에 관해서는 참고서적을 이용하시고 sputter(본란에서 설명을 하였습니다. 참고하기 바랍니다.)를 이용하여 상온 target에
박막을 형성시키는 것은 가능합니다. 입히고자 하는 박막이나 시편의 성질에 따라서 시편의 온도를 조절해야 함은 당연할 것 입니다.
적절한 온도에서 박막이 잘 성장하게 되며 이에 대해서도 이미 설명드린 바가 있습니다. 한가지 더 고려해야 할 것은 금속 박막
성장을 위한 방법으로 MOCVD방법이 있으니 이를 공부해 보는 것도 좋은 방법입니다. MOCVD는 sputter로 가능하지 않은 금속 물질등
의 박막 성장에 사용하는 방법입니다.

ICP에 관한 자료는 일단 다음 교재를 참고하기 바랍니다.
1. M.A. Lieberman & A.J.Lichtenberg "Principles of plasma discharges and material processing (1994,Jhon Wiley & Sons.Inc)
2. J.R.Roth, "Industrial Plasma Engineering : Vol.1 Principles" (1995, Institute of Physics Publishing)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4863
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16200
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63740
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83486
67 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5091
66 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5608
65 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5750
64 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6156
63 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6485
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7518
61 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7564
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 7960
59 고온 플라즈마 관련 8020
58 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 8858
57 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9076
56 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9139
55 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 9941
54 ICP와 CCP의 차이 [3] 10734
53 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 13844
52 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14657
51 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 14889
50 질문있습니다 교수님 [1] 14965
49 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15011
» 박막 형성 15110

Boards


XE Login