Others N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다.

2016.05.05 09:33

짱구 조회 수:8857

안녕하세요. 반도체 관련 엔지니어입니다.


N2, Ar Plasma 를 사용하여 미세 Pattern Pad 표면 세정을 하려고 합니다.


세정물 오염원은 C, Si 등을 포함한 성분인데요.


N2 와 Ar 중 어떤게 더 효과적일지 궁금합니다. ( 사용 원소에 따른 플라즈마 처리 세기의 차이가 있을거 같은데.. )


자료를 찾다보니 아래와 같이 기술된 것도 있던데 맞나요??

- 사용 기체로 산소 및 질소를 사용하였을 경우 아르곤을 사용한 플라즈마 처리 시 보다 에칭 효과 우수

- 산소 사용 시 질소 사용보다 표면 에칭 효과 우수

※ 표면 에칭: 아르곤 < 질소 < 산소


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4862
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16200
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83486
67 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5090
66 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5608
65 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5749
64 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6156
63 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6485
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7518
61 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7564
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 7960
59 고온 플라즈마 관련 8020
» N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 8857
57 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9076
56 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9139
55 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 9941
54 ICP와 CCP의 차이 [3] 10734
53 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 13837
52 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14657
51 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 14889
50 질문있습니다 교수님 [1] 14965
49 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15011
48 박막 형성 15110

Boards


XE Login