Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19460 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76650
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20147
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57147
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68668
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92124
82 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3157
81 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3251
80 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3508
79 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3641
78 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3792
77 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3883
76 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3961
75 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4136
74 플라즈마 색 관찰 [1] 4232
73 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4262
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5246
71 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5445
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5805
69 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6062
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6234
67 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6390
66 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6491
65 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6524
64 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7702

Boards


XE Login