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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[99]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
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플라즈마내에서의 아킹
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143 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34223 |
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142 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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141 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 30323 |
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140 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
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139 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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138 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28039 |
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137 |
RF에 대하여...
| 27931 |
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136 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24381 |
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135 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24071 |
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134 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 23674 |
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133 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23183 |
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132 |
Arcing
| 22920 |
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131 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22270 |
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130 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22028 |
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129 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21894 |
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128 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21693 |
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127 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21070 |
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126 |
UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20664 |
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125 |
plasma cleanning에 관하여....
| 20623 |
