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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 77004
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14 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 684
13 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 641
12 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 636
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10 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 616
9 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 600
8 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 577
7 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 553
6 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 549
5 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 534
4 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 504
3 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 494
2 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 494
1 플라즈마 식각 커스핑 식각량 319

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