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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다.
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플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다.
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92 |
안녕하세요, 질문드립니다.
[2] | 6503 |
91 |
플라즈마 데미지에 관하여..
[1] | 6242 |
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O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154
[1] | 5914 |
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모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의
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RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이
[4] | 5344 |
87 |
DRAM과 NAND에칭 공정의 차이
[1] | 5010 |
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SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] | 4277 |
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SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다.
[1] | 3976 |
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안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다.
[1] | 3962 |
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Dry Etching Uniformity 개선 방법
[2] | 3626 |
82 |
SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문
[1] | 3602 |
81 |
Plasma 식각 test 관련 문의
[1] | 3553 |
80 |
플라즈마 색 관찰
[1] | 3272 |
79 |
DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문
[2] | 3187 |
78 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다.
[1] | 3048 |
77 |
Plasma Etch시 Wafer Edge 영향
[1] | 2975 |
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ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
[2] | 2855 |
75 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 2778 |