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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 2756 |
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HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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PR wafer seasoning
[1] | 2486 |
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HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2456 |
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산소양이온의 금속 전극 충돌 현상
[1] | 2454 |
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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Plasma etcher particle 원인
[1] | 2248 |
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RIE에 관한 질문이 있습니다.
[1] | 2196 |
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sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2011 |
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65 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 1989 |
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64 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 1974 |
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63 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 1949 |
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62 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1682 |
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61 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 1676 |
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DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1595 |
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59 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1545 |
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58 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1542 |
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57 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1519 |
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56 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1503 |
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55 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 1432 |
