번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64547
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85158
74 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2756
73 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2547
72 PR wafer seasoning [1] 2486
71 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2456
70 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2454
69 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2253
68 Plasma etcher particle 원인 [1] 2248
67 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2196
66 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2011
65 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1989
64 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1974
63 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1949
62 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1682
61 etching에 관한 질문입니다. [1] 1676
60 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1595
59 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1545
58 터보펌프 에러관련 [1] 1542
57 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1519
56 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1503
55 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 1432

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