안녕하세요, 의료기기 회사에 재직중인 회사원입니다.

 

최근 사내 내부학습 개념으로 패럴린과 같은 고분자화합물 과 플라즈마 표면처리, 에칭 등의 공부를 하고 있습니다.

스스로나 주변에도 해당 지식이 없는 사람들 뿐이라 인터넷으로 겨우겨우 찾아보며 알아가는 실정입니다.

 

질문드리고자 하는 내용은 에칭과 표면처리에 대한 차이점 입니다.

 

먼저 제가 이해하고 있기로는

표면처리는 보드기판이나 어떠한 물질에 고분자화합물을 코팅하게 되면 증착이 잘 되지 않으므로

플라즈마를 이용해 표면처리(활성화) 를 한 뒤 코팅을 하여 증착력을 높히는 것 과

에칭은 증착된 코팅물질을 없애는 방법 이라고 이해 했습니다.

 

헌데 표면처리 라는 것도 보드의 표면에 있는 이물질이나 원자? 등을 제거하는 것이라고도 생각이 되는데

그렇다면 표면처리를 오래 한다거나 강하게 하면 그것이 에칭이 되는것인가요?

표면처리에 사용되는 제품은 에칭으로는 사용을 못하는 것인가요?

 

질문의 수준이 매우 낮을지도 모르겠네요... 이해 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4884
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16223
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63745
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83507
» 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1155
46 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1079
45 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1052
44 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1029
43 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1015
42 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1001
41 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 999
40 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 973
39 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 954
38 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 935
37 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 830
36 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 827
35 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 820
34 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 800
33 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 798
32 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 781
31 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 745
30 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 720
29 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 631
28 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 622

Boards


XE Login