안녕하세요.

현재, 플라즈마 장비를 이용하여 표면구조 처리를 하고자 하는 대학원생 조원희입니다.

 

다름이 아니라, 플라즈마를 주로 전공하는 과 가 아니기 때문에, 현재 연구실에 있는 플라즈마 샘플 위치에 헷갈림이 좀 있습니다.

오래전 저희 연구실에서는 O2와 Ar을 이용하여, 표면을 친수성으로 만들거나 고분자에 Ar/O2를 혼합하여 etching을 하였었는데, 경험 하신분들이 다 졸업을 하시는 바람에, 여기에 도움을 청하게 됐습니다. 

제가 궁금한 점은,

 

1. O2만을 이용하여 표면을 친수성으로 만들때의 표면 위치와

2. Ar을 이용하여 etching을 할때의 표면 위치가 

 

두 경우에 다른지가 궁금합니다.

 

타겟으로 하는 표면을 각각의 경우에, 챔버 내부의 RF Power와 Matching box가 연결되어 있는 부분에 두어야 하는지, 그 반대에 두어야 하는지 혹시 도와주실 분이 계신가요..?

 

참고로 샘플은 PDMS (고분자) 입니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5605
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51348
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84189
32 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 765
31 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 697
30 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 668
29 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 646
28 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 645
27 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 617
26 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 606
25 ICP 후 변색 질문 587
24 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 571
23 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 543
22 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 535
21 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 510
20 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 510
19 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 507
18 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 489
17 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 483
16 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 479
15 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 473
14 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 466
13 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 462

Boards


XE Login