|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
| 103707 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24746 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61602 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73555 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 106062 |
|
34 |
Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
[2] | 843 |
|
33 |
전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소]
[1] | 798 |
|
32 |
AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
| 781 |
|
31 |
magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화]
[3] | 732 |
|
30 |
메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
[1] | 732 |
|
29 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP]
[1] | 680 |
|
28 |
Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수]
[1] | 650 |
|
27 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
[1] | 647 |
|
26 |
RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability]
[1] | 641 |
|
25 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
[1] | 635 |
|
24 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
| 622 |
|
23 |
Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R]
[1] | 622 |
|
22 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]
[1] | 619 |
|
21 |
공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
[1] | 617 |
|
20 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
[1] | 611 |
|
19 |
Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
[1] | 605 |
|
18 |
III-V 반도체 에칭 공정 문의
[1] | 602 |
|
17 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
[1] | 594 |
|
16 |
타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산]
[1] | 591 |
|
15 |
gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제]
[1] | 566 |
