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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[179]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마내에서의 아킹
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161 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34743 |
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160 |
PEALD관련 질문
[1] | 31879 |
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159 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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158 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 31011 |
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157 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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156 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 29346 |
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155 |
RF에 대하여...
| 29090 |
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154 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28612 |
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153 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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152 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 24439 |
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151 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24398 |
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150 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23457 |
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148 |
Arcing
| 23347 |
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147 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22428 |
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146 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22421 |
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145 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 22005 |
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144 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21803 |
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143 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21328 |
