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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
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ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다.
[1] | 489 |
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가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]
[1] | 485 |
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FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
[1] | 464 |
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Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막]
[1] | 462 |
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HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant]
[1] | 452 |
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AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 435 |
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6 |
Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]
[1] | 432 |
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화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마]
[1]  | 412 |
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Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 406 |
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RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다.
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ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각]
[1] | 344 |
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플라즈마 식각 커스핑 식각량
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