안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82056
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21861
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58645
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70267
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95976
133 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8180
132 고온 플라즈마 관련 8118
131 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7818
130 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 7419
129 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6647
128 안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리] [2] 6640
127 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6595
126 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정] [4] 6549
125 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 6354
124 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6259
123 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성] [1] 5750
122 DRAM과 NAND 에칭 공정의 차이 ["플라즈마 식각 기술"] [1] 5693
121 플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호] [1] 4597
120 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포] [2] 4536
119 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4337
118 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4319
117 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4307
» Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4111
115 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 3988
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 3884

Boards


XE Login