개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76732 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20202 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
182 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43697 |
181 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34956 |
180 | PEALD관련 질문 [1] | 32614 |
179 | RF에 대하여... | 32012 |
178 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31666 |
177 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31537 |
176 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30005 |
175 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29736 |
174 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29263 |
173 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28726 |
172 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24874 |
171 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24646 |
170 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24173 |
169 | Arcing | 23803 |
168 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23760 |
167 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22765 |
166 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22541 |
165 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22119 |
164 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22091 |
163 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21945 |