안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73078
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17643
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65732
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86105
76 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2815
» M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2798
74 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2608
73 PR wafer seasoning [1] 2519
72 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2505
71 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2487
70 Plasma etcher particle 원인 [1] 2329
69 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2293
68 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2253
67 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2156
66 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2107
65 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2043
64 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1994
63 etching에 관한 질문입니다. [1] 1774
62 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1752
61 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1669
60 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1664
59 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1569
58 터보펌프 에러관련 [1] 1563
57 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1555

Boards


XE Login