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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85151
34 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 873
33 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 802
32 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 735
31 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 727
30 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 707
29 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 684
28 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 671
27 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 648
26 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 642
25 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 620
24 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 607
23 ICP 후 변색 질문 604
22 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 586
21 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 558
20 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 539
19 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 538
18 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 530
17 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 524
16 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 514
15 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 505
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