우선 바쁘신와중에 전화 받아주시고 답변주시겠다 해주신것 정말 죄송하고 감사합니다.

 

1. (얼마가 들든 상관없이) 만약 저희가 플라즈마를 이용하여 폐기물 소각 장치를 만든다 하면 대체적으로 어떠한것이 필수적으로 필요할지 말씀주실수 있나요?? (ex) 플라즈마 토치(?), 냉각기등등

2.  슬래그가 무엇이지요?

3. 만약  저희가 쓰레기를 소각한다 하면 그냥 일반 쓰레기를 소각해도 되는건가요?

 

 아님 특정 페기물만 소각 가능한건가요??

 

3. 작동 원리에 대해서 정말 대충이라도 설명해주실수 있나요??

 

4. 다이오신과 퓨란을 분해시키면서 CO2나 H2가 나오면서 환경오염을 줄일 수 있나요?

 

 

 

혹 댓글로 설명하기 힘든 부분이라면  010 3438 7119 으로 전화나 문자를 주시면 감사하겠습니다.

 

 

 

정말 죄송하지만 도움을 주셔서 정말 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79237
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21259
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58061
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69618
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94402
73 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1353
72 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1304
71 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1304
70 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1282
69 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1278
68 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1265
67 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1262
66 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1258
65 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1241
64 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1220
63 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1186
62 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1182
61 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1176
60 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1165
59 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1141
58 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1014
57 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1008
56 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 994
55 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 986
54 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 906

Boards


XE Login