안녕하십니까 현재, 증착관련 기업에서 인턴을 하고있는 김윤재 학생입니다.

Depostion에 관심이 많아서, 교수님의 질문방을 보며 공부(?)를 간혹하는 학생입니다.

 

현재, SiO2박막을 증착하며, 엘립소미터를 이용하여 굴절률과 증착두께를 측정하고 있습니다

그런데, Data를 측정하면  굴절률이 1.30/1.35/1.40/1.45 이런식으로 다양하게 나옵니다. 당연히, 증착두께도 굴절률에 따라 다르게 나옵니다.

SiO2의 굴절률이 1.46으로 알고있는데 굴절률이 다양하게 측정이 된다면, 여러 요인에 의해서 SiO2박막이 제대로 증착이 안된거 같습니다.

 

그런데, 이런 경우라면  Data를 기록할때 어떻게 기록해야하는 궁금합니다.

각 굴절률과  그에 따른 박막두께를 다 기록해야하는지.... 혹은 굴절률과 측정두께의 평균을 구해야 하는지 궁금합니다.... 

유의미한 data를 측정하고 싶은데 지식이 없는 학부생 질문이라 죄송합니다....

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5608
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16896
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84230
32 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 767
31 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 698
30 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 668
29 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 646
28 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 645
» 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 617
26 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 608
25 ICP 후 변색 질문 587
24 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 571
23 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 544
22 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 535
21 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 510
20 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 510
19 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 507
18 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 490
17 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 484
16 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 479
15 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 473
14 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 466
13 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 464

Boards


XE Login