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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73494
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105867
54 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1223
53 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1166
52 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1143
51 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1088
50 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1081
49 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1077
48 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1076
47 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1067
46 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1021
45 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1017
44 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1005
43 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 979
42 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 949
41 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 942
40 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 936
39 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 934
38 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 877
37 ICP 후 변색 질문 874
36 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 871
35 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 842
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