안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111494
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27841
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65113
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76926
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111194
54 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1353
53 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1316
52 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1300
51 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 1291
50 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1269
49 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1242
48 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1226
47 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1184
46 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1162
45 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1153
44 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1119
43 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1105
42 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1093
41 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 1082
40 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 1078
39 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 1074
38 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 1046
37 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 1000
36 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 988
35 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 957

Boards


XE Login