Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:275

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75747
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19430
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56657
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67984
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90188
34 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 663
33 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 651
32 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 643
31 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 630
30 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 622
29 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 603
28 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 558
27 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 554
26 Polymer Temp Etch [1] 548
25 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 507
24 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 502
23 RF Sputtering Target Issue [2] file 467
22 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 465
21 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 461
20 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 436
19 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 404
18 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 389
17 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 374
16 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 354
15 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 306
쓰기
태그

Boards

XE Login