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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61622
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80215
47 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 99
46 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 179
45 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 242
44 doping type에 따른 ER 차이 [1] 189
43 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 270
42 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3333
41 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 306
40 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 747
39 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 623
38 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 531
37 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 818
36 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1064
35 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 708
34 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 707
33 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 2615
32 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1409
31 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 937
30 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2307
29 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1326
28 터보펌프 에러관련 [1] 1423

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