번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74891
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18745
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56228
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66700
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88061
57 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 72
56 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 33
55 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 121
54 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 222
53 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 283
52 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 191
51 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 509
50 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 316
49 Polymer Temp Etch [1] 371
48 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 255
47 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 509
46 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 715
45 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 777
44 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1728
43 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 952
42 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3773
41 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 798
40 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1712
39 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 954
38 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 829
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