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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 식각 커스핑 식각량
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center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
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AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
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안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
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O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
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RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응]
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텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]
[1] | 2863 |
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RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
[1] | 2891 |
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챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자]
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Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)]
[1] | 3167 |
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ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
[1] | 3222 |
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애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
[1] | 3236 |
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Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
[2] | 3242 |
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Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지]
[1] | 3252 |
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RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability]
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RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
[1] | 3302 |
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메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
[1] | 3373 |
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RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias]
[1] | 3431 |
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 3483 |