번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 228161
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 65825
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 102900
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 114979
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 195839
76 플라즈마 식각 커스핑 식각량 1307
75 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 1681
74 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 1827
73 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 2149
72 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 2245
71 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 2333
70 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 2855
69 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 2863
68 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 2891
67 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 3144
66 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 3167
65 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 3222
64 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 3236
63 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 3242
62 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 3252
61 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 3292
60 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 3302
59 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 3373
58 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 3431
57 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 3483

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