Etch etch defect 관련 질문드립니다

2022.04.28 18:19

르후앤 조회 수:1141

1. etch 공정이 완료된 이후 가장자리에 다량의 defect가 발견되었는데 이때 원인을 분석하기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

2. 또 1번의 defect를 줄이기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

저 나름대로 공부를 해봤는데 다른분들 의견이 궁금해서 질문드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77261
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68910
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92960
50 Polymer Temp Etch [1] 721
49 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 859
48 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 861
47 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1024
46 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1083
45 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1109
» etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1141
43 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1148
42 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1153
41 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1188
40 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1203
39 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1263
38 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1410
37 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1433
36 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1441
35 터보펌프 에러관련 [1] 1783
34 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1841
33 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2033
32 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2056
31 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2088

Boards


XE Login