Etch RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?
2023.08.29 11:26
RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.
혹시 이 현상에 대한 원리에 대해 답변 주시면 너무 감사하겠습니다.
RF 300W 기준입니다. 부탁드리겠습니다.
제가 이해하기론 13.56MHz를 pass 하는 LPF를 다셨다는 의미로 이해하였습니다.
실제로 RF match에 유입되는 신호가 13.56MHz의 하모닉(일반적으로 제 1 하모닉(27.12MHz)이 -40~50dbc이므로 매우 작은 신호) 혹은 챔버 환경에 의해 다른 노이즈가 RF match로 유입되는 경우가 있습니다. (반대로 bias를 저주파로(2, 3.2, 4MHz)로 사용하는 구간에서는 HPF가 달립니다. 그래야 저주파는 자르고 내가 쓰고 싶은 주파수 대역의 파워를 송신할 수 있으니)
이런 경우(노이즈 성 타 주파수가 어느 정도 레벨링이 있을 때 threshold로 설정한 레벨이상) RF match의 Mag phase directional coupler에 신호가 잡혀서 RF match가 이상하게 움직이거나 miss matching 되는 경우가 있습니다.
만약 source 13.56MHz만 사용하고 있는데 LPF를 달아야 한다면 chamber의 환경적 요인에 의해 노이즈(13.56MHz의 이상 주파수)가 생성 된 것이라고 추측 됩니다.
분석을 해봐야 한다면 spectrum analyzer과 directial coupler를 가지고 LPF 달았을 때의 노이즈 주파수 dbm과 안달았을 때의 주파수 dbm 계측해보면 좋을 것 같습니다.(안달았을 때는 메뉴얼로 Matching 해보면 될 것 같습니다.)
회로나 환경이 정확하게 쓰여있지 않아 추측성으로 작성 드립니다.
첨부는 digikey에서 Low pass filter 네트워크로 측정할 때의 예시로 드립니다.