안녕하세요~.

저는 KIST에서 고분자 나노패턴을 연구하고 있는 손정곤 입니다.

RIE를 사용하면서 항상 블랙박스와 같이 루틴하게만 에칭을 위해 사용하고는 했는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리게 되었습니다.

RIE 시에 형성되는 플라즈마로 인하여, 일반적인 substrate에는 

1. 플라즈마로 인한 E-field가 걸리는 곳에 이온화된 기체 원자가 직접 부딪히며 생기는 효과와

2. reactive한 radical 형태의 중성 입자가 날라와서 반응하는 효과,

2. 플라즈마로 인하여 형성되는 빛, 그러니까 plasma UV/vacuum UV (VUV) photoemissions로 생기는 효과

세 가지가 동시에 영향을 미칠 것으로 생각됩니다. 

이 경우에, 3번의 형성되는 빛으로 인한 효과는 막으면서 1,2 번의 ion과 radical의 효과만 얻는 방법이 있을 지 궁금합니다.

개인적인 생각은 grating mask(complementary filter?)를 교차로 설치하여 빛의 투과는 막으며 이온과 라디칼은 흘러가서 샘플을 때리게 하고 싶은데, 

그렇다면 이 샘플위에 부양시켜 설치하려는 grating mask는 부도체여야 하는지 도체여야 하는지, 도체라면 아래의 RF 전극과 연결되어야 하는지, 아니면 grounding이 되어야 하는 지 등등이 궁금합니다. 

grating mask가 도체면 RIE의 geometry가 변형되어 e-field 등이 변하고 ion의 움직임도 변할 것 같아 질문드립니다.

여기에서 많은 것들을 배워갑니다. 감사드립니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102358
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24606
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61271
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73361
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105598
36 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1581
35 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1560
34 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1488
33 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1434
32 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1433
31 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1427
30 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1417
29 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1335
28 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1297
27 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1153
» RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1141
25 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1073
24 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1065
23 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1057
22 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1002
21 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 938
20 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 869
19 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 756
18 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 710
17 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 640

Boards


XE Login