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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
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37 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [1] update 11
36 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 231
35 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 673
34 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 268
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25 PEALD관련 질문 [1] 32695
24 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 765
23 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1616
22 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1369
21 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 498
20 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1749
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