박막 공정에서 중요한 것은 플라즈마 밀도와 라디컬 (중성) 가스의 균일도가 공히 중요한 인자입니다. 실제 박막은 플라즈마에 의해서보다 라디컬과 중성종 입자의 표면 반응을 이용하는 것으로 여기서 플라즈마는 주로 박막용 입자들 생성과 에너지 전달에 목적이 있다고 할 수 있습니다. 따라서 균일도를 증진시키기 위해서 먼저 가스 흐름과 확산을 제어하도록 설계하는 작업들을 많이 할 것입니다. 여기에 플라즈마 분포는 역시 생성되는 라디컬과 에너지 전달등에 기여하게 되므로 또한 중요시 해서 봐야 할 인자입니다. 마지막으로 입자 반응에 시간이 필요하므로 배기 흐름 또한 중요하게 됩니다. 이를 함께 고려하는 기술이 박막기술이라 할 수 있습니다.
아울러 N2 플라즈마와 H2 플라즈마의 일반적인 차이는 이온화, 해리 이온화률의 경로 차이가 큽니다. 이를 참고하여 N2 플라즈마 자체를 연구한 논문 (질화 및 이온주입 분야 논문)과 H2 플라즈마 생성 논문 주로 핵융합 이온원 소스 개발 등에서 참고하여 논문 찾기를 해 보시면 좋을 것입니다.