DC glow discharge 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다
2019.04.01 23:40
안녕하세요 졸업작품으로 상압플라즈마를 이용하는 살균기를 개발중인 학생입니다
제품에 관한 질문이라 적절하지 않을 수도 있지만 혹시 답변이 가능하시다면 부탁드리겠습니다..
저희 팀은 DBD형식의 전극을 만들어서 진행하고 있고, 몇 번의 방전실험에서 가장 낮았던 방전전압은 상압에서 1400V 입니다.
이 상태로 제품에 사용되려면 엄청 큰 공업용 변압기를 사용해야 한다고 생각하는데... 판매되고 있는 플라즈마 제품들은 이러한 변압기 없이 가정용전압인 220V로 잘 쓰이고 있다는게 이해가 되질 않습니다.
시중의 플라즈마 제품들은 코로나 방전, 아크 방전을 이용한다고 하는데, 전극형상이 침상처럼 뾰족한 것을 사용해서 저전압으로도 구동되는 원리라고 생각하고 있습니다. 제가 생각하는 원리가 맞는건지.. 아니면 저전압으로 방전시키는 다른 방법이 있는건지 알려주시면 감사드리겠습니다
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
23 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 113 |
22 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 59 |
21 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 252 |
20 | RF Sputtering Target Issue [2] | 598 |
19 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1386 |
18 | sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] | 2314 |
17 | Ar plasma power/time [1] | 1437 |
16 | DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] | 3807 |
15 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10299 |
14 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15803 |
13 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29263 |
12 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20204 |
11 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20906 |
10 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
9 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24874 |
8 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19712 |
7 | sputter | 16845 |
6 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18038 |
5 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17779 |
4 | sputtering | 18292 |
코로나 방전영역에서 플라즈마 발생시키려는 고전압을 인가해서 3000 kV/m 의 전기장 조건을 만족해야 합니다. (I-V characteristic 방전 커브를 참고하세요) 날카로운 팁 주변에는 전기장이 커짐으로 팁 형태는 방전에 유리하나, 팁이 스퍼터링으로 쉽게 무디어질 수 있습니다 (방전에는 전가 가속이 필요합니다. 가속된 전자의 비탄성 충돌로 이온화가 되기 떄문이며, 전가는 전기장에서 가속됩니다. 따라서 전기장을 유지, 생성 하는 방법이 플라즈마 발생기의 핵심이 됩니다) 여기서 쓰는 전원은 큰 전류를 필요로 하지 않고 전압이 높은 경우입닏. 따라서 작은 전원도 가능하고, 이런 고전압 발생기는 전자 부품 상가에서 구입이 가능할 것입니다. (전원은 전류 용량이 클 때 장치가 커집니다.)