Others Group Delay 문의드립니다.
2019.06.26 14:07
안녕하세요
회사에서 필터 연구를 하고 있는 김동규 라고 합니다.
궁금한점이 있는데요, 마땅히 물어볼만한 곳이 없어서 이곳에서 혹시나 도음을 얻을 수 있을까해서 문의 드립니다.
계측기에서 필터 특성 값 S21, S12 값을 뽑아 냈는데요
파일이 실수와 허수 값으로 나타나 있습니다.
예를 들면
1800MH에서 S21RE는 -0.0000926, S21IM은 0.0001257
1800.5MHz 에서 S21RE는 -0.0001249, S21IM은 0.0000956
이렇게 주파수 별로10Gz 까지 나열 되어있는데요
위 값만 가지고 계산으로 Group delay 값을 구할 수 있을까요?
(계측기에서 볼 수 있지만 엑셀 파일로 계산에서 보고 싶거든요)
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
23 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 113 |
22 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 59 |
21 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 252 |
20 | RF Sputtering Target Issue [2] | 598 |
19 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1386 |
18 | sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] | 2314 |
17 | Ar plasma power/time [1] | 1437 |
16 | DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] | 3807 |
15 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10299 |
14 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15803 |
13 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29263 |
12 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20204 |
11 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20906 |
10 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
9 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24874 |
8 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19712 |
7 | sputter | 16845 |
6 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18038 |
5 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17779 |
4 | sputtering | 18292 |
마이트로파 문제로 보입니다. 광운공대의 최진주교수님, 서울대 전자공학과 남상욱교수님께 문의드려 보세요.