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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73508
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24 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1868
23 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1166
22 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 905
21 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1275
20 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2771
19 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2570
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10346
17 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25717
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25001
15 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41682
14 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20466
13 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21542
12 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28975
11 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25029
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20638
9 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26859
8 Ground에 대하여 40093
7 Peak RF Voltage의 의미 22856
6 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17507
5 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12917

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