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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RPC CLEAN 시 THD 발생
[1] | 272 |
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고진공 만드는방법.
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
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analog tuner관련해서 질문드립니다.
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플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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석영이 사용되는 이유?
[1] | 19126 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 20691 |
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Arcing
[1] | 25548 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24245 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 19565 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 25256 |
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Ground에 대하여
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Peak RF Voltage의 의미
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Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
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반응기의 면적에 대한 질문
| 12572 |
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4 |
CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
| 18572 |
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3 |
최적의 펌프는?
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