안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.

 

혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 81812
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21813
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58603
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70232
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95847
24 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41428
23 Ground에 대하여 39733
22 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28790
21 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26637
20 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25646
19 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24868
18 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24790
17 Peak RF Voltage의 의미 22716
16 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21225
15 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20489
14 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20193
13 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19402
12 MFC [Direct liquid injection] 19373
11 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18591
10 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18410
9 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17430
8 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12852
7 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10154
6 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2438
5 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1588

Boards


XE Login