Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19061 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

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