Faraday shielding & Screening effect

(1) Faraday shielding : 대부분 processing plasma에서 사용되는 이 용어는 안테나를 사용할 때 안테나표면에 수직으로 생성되는
전기장(Ez)을 차단한다는 의미입니다. 따라서 이 같은 차폐가 있을 수 있다는 이야기는 안테나에서 발생하는 전기장이 아닌 자기장에
의해서 전자기 파의 에너지가 전달된다는 것입니다. 말이 어렵게 들리겠지만 유도(induction)에 의한 플라즈마의 생성에는 자기장에서
유도되는 기전력이 중 인자라는 것을 기억하시면 됩니다. 수업에서 다루었던 내용입니다.
아울러 Ez가 제거된 경우 process에 어떤 영향이 있을까는 어려운 문제이나 실제 플라즈마에서 큰 문제를 야기할 것 같지는 않습니다.
사실  Ez는 플라즈마 fluctuation에 영향을 줌으로 Ez를 줄이면 fluctuation이 심해지는 것을 막을 수 있습니다. Ez가 커서
fluctuation하는 전위차가 충분히 크다면 이런 fluctuation플라즈마가 더 효율적으로 개스의 해리를 증가시킬까는 생각해 볼 여지가
있기는 합니다. 또한 fluctuation이 크면 floating potential이 음으로 이동하는, self bias만으로 조절하는 편이 보다 쉽게 공정을
이끌어가는 법이 될것입니다.


(2) Screening effect : 이런 표현을 누가 쓰는 지는 모르겠습니다만 제 생각에는  Screening effect는 grid bias를 조절하여 remote
plasma에서 오는 하전 플라즈마를 타겟으로 부터 멀리하겠다는 방법으로 보입니다. 따라서 무슨 효과가 있다기 보다는 장치의 일부라
생각이 듭니다. 플라즈마에는 이온과 전자가 있어 grid bias를 이용하여 플라즈마를 cutoff하려면 많은 노력이 필요합니다. grid격자
의 크기와 sheath의 크기를 잘 고려하고 걸리는 전압에 대한 면밀한 조절이 요구됩니다. 또한 눈에 빛이 보이지 않는다해서 플라즈마
가 없는것은 결코 아니니 grid 배후면에서 플라즈마 진단이 요구됩니다. 오히려 눈에 보이는 빛은 플라즈마에서 나오는 빛이 아닙니다.
이점 염두에 두고 grid bias를 잘 조절해 보기 바랍니다. 또한 염두에 둘 것은 screening을 잘 못하면 타겟에 grid 자국을 만들 수
있습니다. 이를 shadow effect라 합니다. 질문자가 예상한 대로 grid에 의한 플라즈마 조절이 가능할 수 있으며 보다 효율적으로
radical 만 타겟 표면으로 보낼 수도 있을 것입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85743
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22614
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98094
24 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 802
23 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 934
22 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1034
21 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1166
20 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1652
19 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2531
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10206
17 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12864
16 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17447
» Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18431
14 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18601
13 MFC [Direct liquid injection] 19383
12 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19422
11 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20279
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20526
9 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21290
8 Peak RF Voltage의 의미 22757
7 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24865
6 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24899
5 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25664

Boards


XE Login