안녕하세요. 삼성전자 반도체 메모리 8/9라인 CVD공정에 배치받은 신입사원 허원석이라고 합니다.
한가지 여쭤 보고 싶은 점이 있어 질문을 드리게 되었습니다.

RF Generator를 쓰는 설비에서 ARC, HT-SIN 등의 공정은 RF reflect power가 일정하게 나오는데 비해 유독 ACL공정을 하는 설비에서만 RF reflect power가 일정하지 않은 이유가 무엇인지 궁금합니다.
주로 RF reflect power가 점차 상승하거나 때로는 하락할 때도 있습니다.
같은 Recipe에서도 RF reflect power 파형이 다르게 나타나는 것을 보면 Recipe문제는 아닌 것 같습니다...
(ACL 공정의 RF reflect power 파형 그래프 첨부하겠습니다.)

또한 이런 이유로 인해 Heater등의 Part에서 불량이 더 나는 것은 아닌지 알고 싶습니다.
가르침을 주시면 감사하겠습니다.

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