Others Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.

2004.06.25 13:00

관리자 조회 수:17055 추천:250


===============================<질문>============================
반도체 제조 장비 중 Dry Etch 장치의 Chamber내의 상부 전극의 역할과
Si 전극, Cabon 전극, Grpite 전극..등의 성분과 특성, Plasma 형성차이등,,,
에 대해서 설명 좀 해주세요...


=============================<답변>==============================

반응기에서 전극의 역할 중 가장 중요한 역항을 플라즈마 발생과
관련있다고 할 수 있습니다. 이런 관점이라면 전극으로 유입되는
이온에 의한 이차전자 방출량이 플라즈마 생성 효율에 밀접한
영향을 주게 됨으로 전극의 재질은 유입되는 이온 종 과 에너지에
따라서 얼마나 이차전자가 방출되는가 를 살펴보아야 합니다.
또한 이차전자의 방출과 아울러 전극 표면의 입자도 스퍼터링 되어
나오게 되며 이는 종종 반응에 불필요한 불순물 역할을 하게 됩니다.
이런 화학적 특성 또한 전극을 선택하는 요인이 되기도 합니다.
참고가 되었기를 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5607
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16896
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84229
24 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 40414
23 Ground에 대하여 37968
22 Arcing [1] 27376
21 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25933
20 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25424
19 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24534
18 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24048
17 Peak RF Voltage의 의미 22189
16 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20908
15 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20053
14 석영이 사용되는 이유? [1] 19609
13 MFC 19188
12 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19152
11 최적의 펌프는? 18412
10 Faraday shielding & Screening effect 18196
» Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. 17055
8 반응기의 면적에 대한 질문 12704
7 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9327
6 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1655
5 고진공 만드는방법. [1] 810

Boards


XE Login