Plasma in general Co-relation between RF Forward power and Vpp
2022.04.27 17:35
Hello,
I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor.
When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76827 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20250 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68740 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92580 |
675 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1179 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1200 |
673 | Plasma Arching [1] | 1062 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 672 |
671 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 1011 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 481 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1412 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1253 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 452 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 813 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 889 |
664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 825 |
663 | CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] | 5029 |
662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1248 |
661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 693 |
660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 608 |
659 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1457 |
658 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 485 |
657 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1086 |
» | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 595 |
It seems to be an RF ground issue, and check it.