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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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169 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종]
| 96681 |
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168 |
Plasma source type [CCP, ICP, TCP]
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167 |
Silent Discharge
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166 |
대기압 플라즈마
| 40765 |
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165 |
ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 32222 |
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164 |
플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma]
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163 |
DBD란
| 27890 |
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162 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건]
[2] | 25062 |
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161 |
플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절]
| 24583 |
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160 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도]
[1] | 24574 |
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159 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias]
[3] | 24568 |
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158 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23530 |
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157 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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CCP/ICP , E/H mode
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No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율]
| 23217 |
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154 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
| 23182 |
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153 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 22240 |
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152 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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151 |
ccp-icp
| 21699 |
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150 |
F/S (Faraday Shield)
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