Plasma etching 관련하여 공부를 하고 있는 학생입니다.

 

plasma를 분석하는 대표적인 방법 중 하나가 OES인데 저 역시도 분석장비를 여러번 사용하고 분석도 해보았습니다.

 

그런데 OES 분석 시 특정 peak의 intensity (height)을 통해 plasma 내 radical의 정성분석을 하게 되는데 왜 특정값만 사용하고 일정 공간의 넓이 (area)로 계산하지 않는지 잘 모르겠습니다.

 

관련 논문이나 책도 많이 찾아봤는데 "intensity를 분석했다." 라고만 나오고 왜 intensity를 분석했는지에 대해선 안나오더라구요.

 

개인적인 추측으로는 OES 분석이 각 원자나 분자가 relaxation되면서 방출되는 파장이 불연속적 값이라서지 않을까 생각되긴 하는데 이거만으로는 intensity로 분석하는 것에 대한 근거가 부족하다고 생각이 들었습니다. 

 

Intensity를 포함하는 일정 영역의 넓이를 계산하지 않고 특정 intensity 값을 통해 분석하는 명확한 이유를 알 수 있을까요?

 

참고할 수 있는 문헌이 있다면 알려주시면 자세히 읽어보도록 하겠습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82251
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21896
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58682
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70305
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96076
13 OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보] [1] 26887
12 RGA에 대해서 10619
11 자료 요청드립니다. [1] 6300
10 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3439
9 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2006
8 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 1864
» OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1693
6 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 944
5 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 887
4 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 828
3 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 754
2 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 753
1 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 575

Boards


XE Login